‘材料分析’ カテゴリーのアーカイブ


改正RoHS指令  IEC62321-8によるフタル酸エステル4物質のスクリーニング分析(Py/TD-GCMS)のご案内

201564日にRoHS2の禁止物質(制限物質)を定めた2011/65/EUAnnexⅡを置き換える(EU2015/863が公布されました。これにより、RoHS2の禁止物質6物質にフタル酸エステル4物質(フタル酸ジ-2-エチルヘキシル(DEHP)、フタル酸ジブチル(DBP)、フタル酸ブチルベンジル(BBP)、フタル酸ジイソブチル(DIBP))が追加になりました。(2019 7 22 日から一部の機器を除き適用)

フタル酸エステル類のスクリーニング分析法としてPy/TD-GCMS(熱分解-GCMS)が国際規格 IEC62321-8 において規格化され、2017年3月に正式発行されました。

 

当社では、IEC62321-8によるスクリーニング分析の実施体制を強化して、みなさまのご依頼をお待ちしております。

 

分析レポート(例)

貴殿よりご依頼いただきました試料の分析結果は次の通りです。

件 名

RoHS指令規制物質のスクリーニング分析

株式会社近畿分析センター

〈東日本事業所〉

211-8666

川崎市中原区下沼部1753番地

TEL044435-1087 FAX(044)435-1796

 

試料の特徴と状態

 

受 付 日

 

採 取 日

 

採取場所

採取の区分

採 取 者

採取方法

承 認

査 閲

担 当

分析実施日

 

 

 

 

試験方法

表中に記載

分 析 項 目

分 析 結 果

分析方法

試料名

 

1

鉛(Pb)

分 析 結 果

蛍光X線分析

2

カドミウム(Cd)

10 (mg/kg)

蛍光X線分析

3

クロム(Cr)

10 (mg/kg)

蛍光X線分析

4

水銀(Hg)

50 (mg/kg)

蛍光X線分析

5

臭素(Br)

10 (mg/kg)

蛍光X線分析

6

フタル酸エステル4種計

100 (mg/kg)

計算法

 

DEHP:フタル酸ビス(2-エチルヘキシル)

100 (mg/kg)

Py/TD-GCMS分析

BBP :フタル酸ブチルベンジル

100 (mg/kg)

Py/TD-GCMS分析

DBP :フタル酸ジブチル

100 (mg/kg)

Py/TD-GCMS分析

DIBP :フタル酸ジイソブチル

100 (mg/kg)

Py/TD-GCMS分析

備考

<数値:検出下限値未満

蛍光X線分析

検出下限値:測定時の3σ

分析装置:株式会社堀場製作所 X線分析顕微鏡 XGT-5000

Py/TD-GCMS法

熱分解温度:400

分析装置:日本電子株式会社 JMS-1050GCにパイロライザーを付設

 

株式会社近畿分析センター
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カテゴリー: 材料分析 | 2017 年 5 月 8 日 月曜日

Si半導体の結晶欠陥評価のためSECCOエッチングによる可視化技術を確立しました

SECCOエッチングによる結晶欠陥観察事例〉

(当社の特徴)

◇完成品、途中工程品いずれも対応可能

◇きめ細かいエッチング量制御による欠陥発生深さの検証が可能

◇短納期対応可能(~3営業日対応)

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カテゴリー: 材料分析 | 2017 年 2 月 20 日 月曜日

環境対策分野におけるTEM(透過型電子顕微鏡)活用事例のご紹介

半導体をはじめさまざまな電子材料の微細構造観察・分析に活躍するFIBやTEMですが、環境対策分野でも、排水処理や汚染土壌処理に用いる薬剤や粒子の構造をナノ領域で見える化することにより、不溶化、汚染防止のメカニズム解明に役立てるなど、活用されています。

◆排水処理汚泥の表面コーティングによる溶出防止検討事例(SEM/TEM/EDX分析事例)

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カテゴリー: 材料分析 | 2017 年 1 月 18 日 水曜日

Py-GCMS(熱分解GCMS)による製品・材料からの発生ガス分析事例

〈対象試料〉 プラスチック、ゴム、添加剤、塗料、ポリマー等

〈温度範囲〉 40~800

〈熱分解分解装置〉フロンティアラボ社製

〈GC-MS〉 日本電子社製 JMS-Q1050GC

〈分析事例〉

◎原材料加熱時の発生ガス成分調査

◎製品異常加熱時の有害ガスの発生調査

◎アウトガスから添加剤の調査

◎接着剤のアウトガス調査

◎フィルム含有添加剤調査

〈当社の特徴〉

従来、測定が困難であったヘキサナール、環状シロキサン3量体(D3)等の低沸点有機物質がオーブンクライオシステム導入により測定可能

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カテゴリー: 材料分析 | 2016 年 5 月 19 日 木曜日

半導体製造装置へ組み込まれる配管・部品の薬品洗浄後のクリーン度確認のため「比抵抗による洗浄効果確認実験」を開始しました! 

(概要)
半導体製造装置へ組み込まれる各種部品の清浄度に対する要求が益々厳しくなっている中、製品内を酸で洗浄した後の純水による洗浄効果を確認する方法として、「比抵抗による洗浄効果確認方法」を確立しました。

(当社の実験の特長)           
①強酸・強塩基性試薬にも対応可能。
②クリーンルーム内での測定可能。
③高品位な純水を多量に使用可能。
④立会い分析可能。
⑤短納期対応。

実験内容についてのご要望はお気軽にご相談ください。その他、お客様にカスタマイズした実験を承ります。立会い実験もお受けします。

(実験事例)

製品A,Bの酸洗浄効果の確認実験を実施しました。(流量:①>②>③)

(製品AとBでは内部配管の構造が違います。)

 

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カテゴリー: 材料分析 | 2015 年 9 月 24 日 木曜日